A/ Proizvodnja dušika: Številni procesi v elektronski industriji zahtevajo -dušik visoke čistosti, molekule ogljika pa je mogoče uporabiti v napravah za proizvodnjo dušika z nihajočo adsorpcijo. Z izkoriščanjem razlike v adsorpcijski sposobnosti ogljikovih molekularnih sit za kisik in dušik v zraku se kisik in druge nečistoče adsorbirajo pod pritiskom, kar omogoča obogatitev dušika. Tako se proizvaja-dušik visoke čistosti in uporablja kot zaščitni plin pri proizvodnji, skladiščenju in transportu elektronskih komponent za preprečevanje oksidacije komponent.
B/ Čiščenje vodika: V proizvodnem procesu nekaterih elektronskih materialov je potreben vodik visoke-čistosti. Ogljikova molekularna sita lahko odstranijo nečistoče, kot so ogljikov dioksid, ogljikov monoksid in vodna para, iz mešanic plinov,-ki vsebujejo vodik, z metodami adsorpcijskega ločevanja, s čimer pridobijo vodik visoke-čistosti in izpolnjujejo stroge zahteve elektronske industrije glede čistosti vodika.
C/ Sušenje zraka: Proizvodno okolje v elektronski industriji ima stroge zahteve glede vlažnosti. Molekule ogljika imajo dobro absorpcijo vode in se lahko uporabljajo v sistemih za sušenje zraka. Lahko absorbira vlago v zraku, zmanjša vlažnost zraka, zagotovi suho okolje za proizvodnjo elektronskih komponent, prepreči težave, kot so kratki stiki in korozija zaradi vlage, ter izboljša kakovost in zanesljivost izdelkov.
CHEMXIN se ukvarja z molekularnim sitom od leta 2002, več kot 23 let izkušenj pri proizvajalcu, razvoju in navodilih za namestitev. Delimo več primerov in preučimo skupaj.
E-pošta: sales@chemxin.com
Splet: www.chemxin-en.com